ASML DUV光刻机亮相进博会 可用于制造7nm制程芯片

　　世界光刻机巨头ASML亮相第三届进博会，但由于禁令无法向中国大陆出口EUV光刻机，所以此次展示的是DUV光刻机，可用于生产7nm以及更大制程的芯片。

　　除此之外，ASML还带来了其整体光刻解决方案，包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术，让边缘定位精度不断提高。阿斯麦全球副总裁、中国区总裁沈波在现场表示："我们在中国大陆地区大大小小装机已经有700台，很多芯片制造企业都是我们多年的合作伙伴。"据介绍，2020年第二、第三季度，公司发往中国大陆地区的光刻机台数超过了全球总台数的20%。

　　随后他还讲到，阿斯麦产品85%的零部件是和供应链共同研发。开放的生态系统可以让企业在全世界范围内找到最好的供应商，包括光学器件、机械装置等。在一个系统内部，大家分工协作最有效率，芯片技术越来越有竞争力，人们才能消费到价格更低、性能更好的电子产品。"只有开放才能最有效地创新，关起门来效率是非常低的。"沈波说。