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ASML DUV光刻机亮相进博会 可用于制造7nm制程芯片

时间:2023-04-23 03:42:10人气:949 作者:未知

  世界光刻机巨头ASML亮相第三届进博会,但由于禁令无法向中国大陆出口EUV光刻机,所以此次展示的是DUV光刻机,可用于生产7nm以及更大制程的芯片。

ASML DUV光刻机亮相进博会 可用于制造7nm制程芯片

  除此之外,ASML还带来了其整体光刻解决方案,包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术,让边缘定位精度不断提高。阿斯麦全球副总裁、中国区总裁沈波在现场表示:"我们在中国大陆地区大大小小装机已经有700台,很多芯片制造企业都是我们多年的合作伙伴。"据介绍,2020年第二、第三季度,公司发往中国大陆地区的光刻机台数超过了全球总台数的20%。

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  随后他还讲到,阿斯麦产品85%的零部件是和供应链共同研发。开放的生态系统可以让企业在全世界范围内找到最好的供应商,包括光学器件、机械装置等。在一个系统内部,大家分工协作最有效率,芯片技术越来越有竞争力,人们才能消费到价格更低、性能更好的电子产品。"只有开放才能最有效地创新,关起门来效率是非常低的。"沈波说。

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